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EVG720 系統利用 EVG 創新的 SmartNIL 技術和材料專業知識，實現微米級和納米級結構的大規模制造。EVG720 系統采用 SmartNIL 技術，能夠在大面積上打印小至 40 nm* 的納米結構，具有較大的吞吐量和較低的擁有成本，非常適合下一代微流控和光子器件（如衍射光學元件 （DOE））的批量生產。
*分辨率取決于工藝和模板
特點
· 具有復制保真度的批量驗證印記技術
· 成熟的SmartNIL技術與多用途聚合物沖壓技術®
· 集成壓印，UV固化脫模，和工作印章制作
· 自動磁帶到磁帶處理加上半自動化的研發模式
· 可選的頂部對齊
· 可選的迷你環境
· 開放平臺的所有商業可用的印記材料
· 從研發到生產的可擴展性
· 系統外殼，最佳的過程穩定性和可靠性
技術數據
晶圓直徑（襯底尺寸）：75至150毫米
分辨率：≤ 40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
過程支持：SmartNIL®
曝光源：大功率LED（i-線）> 40mW/cm2
對齊：可選頂部對中
自動分離：支持
迷你環境和氣候控制：可選
工作印章制作：支持
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