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      當前位置:首頁  >  產品中心  >  膜厚儀  >  硬化涂層膜厚儀  >  FR-pRoThetametrisis膜厚測量儀

      Thetametrisis膜厚測量儀

      簡要描述:Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

      • 產品型號:FR-pRo
      • 廠商性質:代理商
      • 產品資料:查看pdf文檔
      • 更新時間:2024-03-21
      • 訪  問  量: 5287

      詳細介紹

      Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述:

      FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

      FR-pRo膜厚儀是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

      FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。

      比如:

      吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環境控制下甚至在液體環境下的表征等等…

      Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用:

      1、大學&研究實驗室

      2、半導體行業

      3、高分子聚合物&阻抗表征

      4、電介質特性表征

      5、生物醫學

      6、硬涂層,陽極氧化,金屬零件加工

      7、光學鍍膜

      8、非金屬薄膜等等…

      FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊,核 心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統)和控制單元,電子通訊模塊。

      此外,還有各種各種配件,比如:

      1.用于測量吸收率/透射率和化學濃度的薄膜/試管架;

      2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具;

      3.用于控制溫度或液體環境下測量的加熱裝置或液體試劑盒;

      4.漫反射和全反射積分球。

      通過不同模塊組合,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。

      Specificatins 規格:

      Model

      UV/Vis

      UV/NIR -EXT

      UV/NIR-HR

      D UV/NIR

      VIS/NIR

      D Vis/NIR

      NIR

      光譜范圍  (nm)

      200 – 850

      200 –1020

      200-1100

      200 – 1700

      370 –1020

      370 – 1700

      900 – 1700

      像素

      3648

      3648

      3648

      3648 & 512

      3648

      3648 & 512

      512

      厚度范圍

      1nm – 80um

      3nm – 80um

      1nm – 120um

      1nm – 250um

      12nm – 100um

      12nm – 250um

      50nm – 250um

      測量n*k 蕞小范圍

      50nm

      50nm

      50nm

      50nm

      100nm

      100nm

      500nm

      準確度*,**

      1nm or 0.2%

      1nm or 0.2%

      1nm or 0.2%

      1nm or 0.2%

      1nm or 0.2%

      2nm or 0.2%

      3nm or 0.4%

      精度*,**

      0.02nm

      0.02nm

      0.02nm

      0.02nm

      0.02nm

      0.02nm

      0.1nm

      穩定性*,**

      0.05nm

      0.05nm

      0.05nm

      0.05nm

      0.05nm

      0.05nm

      0.15nm

      光源

      氘燈 & 鎢鹵素燈(內置)

      鎢鹵素燈(內置)

      光斑 (直徑)

       

       

      350um (更小光斑可根據要求選配)

       

       

      材料數據庫

       

       

       

      > 600 種不同材料

       

       

       

      Accessries 配件:

      電腦

      19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

      聚焦模塊

      光學聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

      薄膜/比色皿容器

      在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量

      接觸式探頭

      用于涂層厚度測量和光學測量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品

      顯微鏡

      用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量

      Scanner  (motorized)

      帶有圓晶卡盤的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自動化樣品臺可選,Polar(R-Θ)樣品臺支持反射率測量,Cartesian(X-Y)樣品臺支持反射率和透射率測量

      積分球

      用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射

      手動 X-Y 樣品臺

      測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺

      加熱模塊

      嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).

      液體模塊

      聚四氟乙烯容器,用于通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具,

      用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中

      流通池

      液體中吸光率、微量熒光測量






      工作原理:

      白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經多層或單層薄膜反射后,經界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學常數。

      * 規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代 表光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。

       

       

       

       

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