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      • EVG620 NT掩模對準光刻機系統

        EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在蕞小的占位面積上結合了先進的對準功能和蕞優化的總體擁有成本,提供了優于其他品牌的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,蕞短的掩模和工具更換時間以及高效的全球服務和支持,使它成為任何制造環境的理想解決方案。

        更新時間:2024-03-19
        型號:EVG620 NT
        廠商性質:代理商
        瀏覽量:640
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